‎В высокорейтинговом научном журнале Nuclear Materials and Energy вышла статья, соавтором которой является доцент Института ЛапЛаз НИЯУ МИФИ Дмитрий Синельников.

Статья, написанная в соавторстве с японскими учеными из Нагойского университета, посвящена изучению свойств вольфрамовых наноструктурированных кластеров (nanostructural tendril bundles, NTB), которые образуются на внутренних стенках термоядерных реакторов с магнитным удержанием плазмы.

Полученные данные помогут повысить устойчивость стенок реакторов к эрозии и сделать работу реактора более стабильной. В ходе исследования авторы статьи изучили причины возникновения NTB, а также определили минимальные температуры, при которых вероятность возникновения электрических разрядов между кластером и стенкой реактора существенно снижается.

По словам Дмитрия Синельникова, научившись управлять ростом NTB-структур на разных материалах, можно найти им практическое применение в какой-то иной технологической сфере. Областью их применения в будущем может стать эмиссионная электроника, где они заменят более габаритные и менее энергоэффективные накальные катоды. Также результаты исследования помогут улучшить параметры работы термоядерных реакторов.